化工学报 ›› 2008, Vol. 59 ›› Issue (S1): 15-19.
屠晓华;褚有群;赵峰鸣;黄祥岳;马淳安
TU Xiaohua;CHU Youqun;ZHAO Fengming;HUANG Xiangyue;MA Chun’an
摘要:
研究了铜电极上间硝基苯磺酸钠在含有四丁基高氯酸铵(TBAP)电解质的质子惰性介质(DMF)、质子介质(H2O)及混合介质(DMF/H2O)中的电化学行为。结果表明:在质子惰性介质中,间硝基苯磺酸钠分步连续地被还原为ArNO-2·和[ArNO2]2-·阴离子自由基;其中ArNO2/ArNO-2·为扩散控制的单电子转移可逆氧化还原反应。在水溶液中,间硝基苯磺酸钠经历了ArNO2/ArNO和ArNO/ArNHOH反应。而在混合溶剂中,由于DMF的存在阻碍了硝基的质子化进程,间硝基苯磺酸钠经历了ArNO2/ArNO-2·和ArNO-2·/ArNHOH反应。通过量化计算进一步证实了上述实验结果。