化学气相淀积反应器中成核与成膜控制

CIESC Journal

化学气相淀积反应器中成核与成膜控制

李春忠,胡黎明,袁渭康,陈敏恒

华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所,华东化工学院技术化学物理研究所上海200237 ,上海200237 ,上海200237 ,上海200237

出版日期:1993-10-25 发布日期:1993-10-25

CONTROLLING OF PARTICLE FORMATION AND FILM GROWTH IN THE CVD REACTOR

Li Chunzhong, Hu Liming, Yuan Weikang and Chen Minheng (Technical Chemico-Physics Institute, East China University of Chemical Technology, Shanghai 200237)

Online:1993-10-25 Published:1993-10-25

摘要/Abstract

摘要： 基于气溶胶动力学和化学反应动力学,建立了化学气相淀积(CVD)反应器中普适动力学方程,导出了CVD反应器中超细颗粒粒径分布谱函数和薄膜淀积速率的计算方法;研究了操作参数对钛酸丁酯高温裂解过程中成核与成膜的影响.用成核与成膜竞争判据——H准数,研究了CVD反应器中成核与成膜的控制策略.

李春忠,胡黎明,袁渭康,陈敏恒. 化学气相淀积反应器中成核与成膜控制 [J]. CIESC Journal.

Li Chunzhong, Hu Liming, Yuan Weikang and Chen Minheng (Technical Chemico-Physics Institute, East China University of Chemical Technology, Shanghai 200237). CONTROLLING OF PARTICLE FORMATION AND FILM GROWTH IN THE CVD REACTOR[J]. .