CIESC Journal

• PROCESS AND PRODUCT TECHNOLOGY • 上一篇    下一篇

氯化铜脱除硫化氢气体制硫磺研究

张俊丰; 童志权   

  1. Department of Environmental Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China
  • 收稿日期:1900-01-01 修回日期:1900-01-01 出版日期:2006-12-28 发布日期:2006-12-28
  • 通讯作者: 张俊丰

H2S removal with cupric chloride for producing sulfur

ZHANG Junfeng; TONG Zhiquan   

  1. Department of Environmental Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China
  • Received:1900-01-01 Revised:1900-01-01 Online:2006-12-28 Published:2006-12-28
  • Contact: ZHANG Junfeng

摘要: A novel technology of removing H2S with cupric chloride solution was developed in this paper. Cupric as the form of CuS deposition, the CuS produced  was  then  oxidized  by  excessive  cupric  ion  in  another  reactor
meanwhile cupric ion that has been consumed can be recovered by  the  oxidization  of     with  oxygen in air, 
and the solution can be circulated. Moreover, the leaching kinetics of CuS by cupric ion was studied. The removal efficiency of H2S is close to 100%, and the required operating condition is mild. Compared with other wet oxidiza-tion methods, no raw material is consumed except O2 in air, the process has no secondary pollution and no problem of degradation and scale, and the absorbent is much stable and reliable.

关键词: cupric chloride;H2S;oxidation

Abstract: A novel technology of removing H2S with cupric chloride solution was developed in this paper. Cupric as the form of CuS deposition, the CuS produced  was  then  oxidized  by  excessive  cupric  ion  in  another  reactor
meanwhile cupric ion that has been consumed can be recovered by  the  oxidization  of     with  oxygen in air, 
and the solution can be circulated. Moreover, the leaching kinetics of CuS by cupric ion was studied. The removal efficiency of H2S is close to 100%, and the required operating condition is mild. Compared with other wet oxidiza-tion methods, no raw material is consumed except O2 in air, the process has no secondary pollution and no problem of degradation and scale, and the absorbent is much stable and reliable.

Key words: cupric chloride, H2S, oxidation