Effect of Boundary Layers on Polycrystalline Silicon Chemical Vapor Deposition in a Trichlorosilane and Hydrogen System
张攀, 王伟文, 陈光辉, 李建隆
Effect of Boundary Layers on Polycrystalline Silicon Chemical Vapor Deposition in a Trichlorosilane and Hydrogen System
ZHANG Pan, WANG Weiwen, CHENG Guanghui, LI Jianlong
CIESC Journal . 2011, (1): 1 -9 . 

版权所有 © 2019 《化工学报》编辑部
北京市东城区青年湖南街13号（100011）
电话：010-64519489，010-64519362，010-64519485，010-64519490，010-64519451
E-Mail：hgxb@cip.com.cn
京ICP备12046843号-7
京公网安备 11010102001995号
本系统由北京玛格泰克科技发展有限公司设计开发